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研磨液行业概述

研磨液为固体颗粒悬浮于水中的不溶性异质混合物，静止后会沉积。作为半导体产业关键工艺，研磨液以化学手段配合磨粒实现半导体表面精细处理，广泛应用于整个制程。此研磨液通常包含PH调节剂、表面活性剂、分散剂及螯合剂等成分，各成份分别履行自身职责。

根据其机理研磨液可分为机械作用型和化学机械作用型两类。

使用机械力量进行研磨的研磨液，其构成主要由如金刚石、B4C等高性能的微粒状物质作为研磨剂，通过科学合理地添加适量的分散介质等手段将高效的磨料均匀分散在适当的液体媒介之中，进而打造成为拥有特殊磨蚀效果的液体状态，这种精心配制而成的磨蚀剂被大家熟知并尊称为金刚石研磨液或是碳化硼研磨液等等。在此过程中，微观形态下的磨料呈现出随机而广泛的分布状态，它们凭借着自身比待处理物更强的硬度优势，成功地利用了液体介质的流动性，使得待处理的物品得以完美无瑕地进行研磨加工以及必要的厚度减小。然而，依据磨料的表面特性、颗粒尺寸以及研磨液配置方法的精确度、研磨设备运行稳定性等关键因素，研磨过程结束之后，工件表面极有可能会残留各类尺寸不一的划痕。因此，这类依赖于机械力量作用的研磨液一般适用于对粗糙表面的初步打磨阶段，但接下来，要获得更高品质的表面修复效果，仍需运用更加精细专业的精密研磨技巧甚至是进行精确抛光工艺。

另外一种利用化学与机械双重作用力开发出来的新型研磨液，它巧妙地融合了磨损中的“软磨硬”之神奇原理，即采用质地微弱的材料作为磨蚀剂，借助其物理性质上的柔性特征，达到在不同复杂条件下获取高质量抛光效果的目的。此种方法是通过综合性地运用化学腐蚀效应和机械削磨过程，它充分利用了超微粒子的强大磨蚀功能和化学腐蚀能量在待处理工件的表面创造出镜面般的光滑质感。因此，这项革命性的研磨液技术也被广大专业人士冠名为化学机械抛光液(全称—Chemical Mechanical Polishing, 简称CMP)。在高压环境及特定的抛光液材料存在的前提下，配合适当的抛光垫运动轨迹预期设定，最终使得被处理物接触物体表面时能产生适当有序的相对运动，借助于纳米级别的微小粒子所产生的磨蚀功效及其与强氧化剂的有机结合，在经过严格的研磨过程之后不仅可以得到完美无瑕的工件表面，更能有效减少不必要的表面划伤现象。

化学机械抛光液，根据磨料不同的分类：

二氧化硅研磨液，氧化铈研磨液，氧化铝研磨液等。

金刚石研磨液根据磨料不同的分类：

金刚石研磨液主要由高质量的金刚石磨料及特定配比的分散液构成，依金刚石微粉的不同性质，可细分为多晶金刚石研磨液、单晶金刚石研磨液以及新型的爆轰纳米金刚石研磨液这三大类。

1、单晶金刚石研磨液

单晶金刚石研磨液凭借优异的切削力，以及较为合理的制造成本，广受众多行业青睐，被广泛应用于超硬材料诸如硬质合金等硬质材料的精细研磨与高精度抛光工序之中。它不仅能大幅度提升研磨效率，还能有效地将磨削过程中所释放出的大量热能及时散热，以防止工件表面因过度高温导致烧损。

2、多晶金刚石研磨液

多晶金刚石研磨液充分利用了多晶金刚石本身所具有的优良韧性，使得其在高强度研磨与抛光的过程中始终维持着高效的切削能力，同时又能显著降低划痕的产生，为主流的精密抛光处理提供了卓越的工作环境。因此，这种研磨液在光学晶体、陶瓷学、超硬合金等各类硬质材料的精细研磨与高级抛光领域得到了广泛普及。

图表：研磨液分类

资料来源：智研瞻产业研究院整理

研磨液行业政策

伴随着中国半导体材料产业的飞速发展，其背后是得到国家相关政策全力支持的结果。特别设立的各项重大政策以及规模庞大的国家基金的倾力扶持，极大地促进了该行业上下游环节的深度整合。此外，随着中国本土晶圆工厂对于国产材料的认可度逐步提高，这也进一步强化了产业链条的协同效应。值得关注的是，相较于第一期大基金，正在实施中的大基金二期在资金分配上更为倾向于半导体制造设备及半导体材料两个关键领域，从而为推动整个半导体产业链的全面、深入发展注入强大动力。在此背景下，中国有能力抓住全球半导体产业重心日益东移所带来的历史性机遇。需要指出的是，过去我国研磨液产品的进口依存度较高，这无疑在一定程度上影响了包括研磨液在内的整个半导体产业的国产化进程。然而，随着相关企业在技术研发方面的不断突破，再加上政策环境的推波助澜，我们有理由相信，我国的研磨液产品竞争力将继续攀升至新的高峰。

图表：研磨液产业政策

资料来源：智研瞻产业研究院整理

研磨液行业发展现状

随着中国经济蒸蒸日上，高端制造业持续壮大，得益于国家政策和市场需求的双重推动，我国半导体产业正蓬勃发展，并拉动了研磨液市场的扩大。

近些年间，政府积极推出系列政策以鼓励和扶持半导体业的发展。2023年1月，中华人民共和国工业和信息化部、其他五个部门联合宣布了《关于推动能源电子产业发展的指导意见》，指出了研究小型化、高效能、高可靠性的功率半导体、传感器元件以及光电器件等基础电子部件及其专用设备和先进工艺的重要性。同年3月，国家发展改革委员会发布了《"十四五"数字经济发展规划》，强调了增强基础软件和硬件、核心电子元件、关键基础材料和生产设备的供给能力，并致力于提升关键产品的自我保障率。在半导体行业中，研磨液被誉为关键原料，同时其所处的市场环境也相当优越。

经过多年的努力，我国研磨液行业已经逐步摆脱了对外国技术的过度依赖，本土品牌逐渐担当大任，其市场份额逼近60%，而进口品牌的市场占有率仅为40%。国内研磨液主要生产商包括上海新阳半导体材料股份有限公司、东莞市创力研磨科技有限公司、深圳市振鸿兴研磨科技有限公司、北京国瑞升科技股份有限公司等等。

随着中国科学技术的持续升级，半导体产业的繁荣将会不断扩大研磨液的市场需求，助力该行业取得无量光明。面对半导体生产技术迭代频率加大，产品更新换代步伐加速的现实情况，市场对于研磨液的品质和功能提出了更高要求。因此，我国生产企业需继续提升制造技艺，研制创新技术与新颖产品，以适应市场多元且个性的需求。

研磨液行业市场规模

统计数据显示，2018年中国研磨液行业市场规模16.21亿元，2023年中国研磨液行业市场规模23.63亿元。2018-2023年中国研磨液行业市场规模如下：

图表：中国研磨液行业市场规模（2018-2023年）

数据来源：智研瞻产业研究院整理

研磨液行业产业链

研磨液原料主要由增稠剂、分散剂、pH调节剂、表面活性剂和螯合剂构成。在研磨液生产环节中，国产品牌份额持续增长。因半导体硅片制造业被视为我国优先支持发展的产业，对经济社会稳健发展起关键作用，故而，全球半导体事业的拓展以及相应的研磨液需求增长将有力地促进本行业的发展。

图表：研磨液行业产业链

资料来源：智研瞻产业研究院整理

研磨液行业竞争

在全球范围内，诸如美国与日本等国家的大型垄断制造商在人才上储备相对丰富，然而，值得注意的是，相比较之下，我国在集成电路领域的化学机械抛光液产业发展起步较晚，落后的人才培育机制导致了我们本土专业技术人才资源的缺乏，这已经成为了新进企业所面临的主要挑战之一。中国的研磨液行业队伍由如北京国瑞升科技股份有限公司、新阳半导体、安集科技、东莞市创力研磨科技有限公司、深圳市振鸿兴研磨科技有限公司等等这样的优秀公司组成，虽然我们的竞争力已逐步接近甚至超越部分外资企业，但是从整体上看，仍然存在着很大的进步空间。

图表：研磨液行业竞争

资料来源：智研瞻产业研究院整理

研磨液行业发展趋势

1、产业发展展望

纵观未来趋势，随着我国半导体市场规模的逐步扩大，以及国家相应出台的政策对于半导体和集成电路产业给予大力支持，我们可以预期我国研磨液的国产化和本地化供给过程将会得到显著推动。参照《中华人民共和国国家集成电路产业发展推进纲要》中设定的发展目标，至2030年，我国的集成电路产业链各主要环节有望达到世界领先水准，部分优秀企业也将跻身于世界领先的企业行列，实现跨越式的发展突破。在国家产业政策的有力引导和社会资本的倾力支持等多项利好因素的驱动之下，我国研磨液研发领域将突显出更多具备国际竞争力的尖端产品，成功实现更多关键领域的进口替代目标，从而大幅度提升我国研磨液的国产化程度。

2、产品发展趋势

最近几年来，在半导体与LED产业的蓬勃发展所带来的有利影响下，全球乃至我国研磨液和抛光液的市场需求都在稳步增长，行业的整体发展步伐也得以加速前进。随着下游市场的快速扩张，研磨液的市场需求亦呈现出日益深化的态势，专业化、定制化以及高端化已经成为研磨液市场未来发展的必然走向。