| 产品名称 | 产品类别 | 产品简介 | 市场价 | 价格 |
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￥22800.00 |
￥19500.00 |
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相关报告：《中国集成电路用刻蚀机行业市场潜力分析及投资机会研究报告》
刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器。光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光)，后者按这张图去刻线(就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分)。
刻蚀机市场需求 中国刻蚀机行业市场投资前景分析
按照刻蚀工艺划分，刻蚀主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀，利用等离子体与表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。
湿法刻蚀工艺主要是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀，该刻蚀方法会导致材料的横向纵向同时腐蚀，会导致一定的线宽损失。干法刻蚀在半导体刻蚀中占据绝对主流地位，市场占比约 90%。
刻蚀机产业链中，上游为刻蚀机的四大组成部分，主要包括预真空室、刻蚀腔体、供气系统及真空系统;中游为刻蚀机的制造，刻蚀技术主要有两种，传统湿法刻蚀技术及现代干法刻蚀技术;下游为刻蚀机的应用，主要用来制造半导体器件、太阳能电池及其他微机械制造。
半导体刻蚀设备市场主要由美日厂商主导。半导体刻蚀设备领域长期由海外龙头垄断，根据统计，全球刻蚀企业前三大分别是泛林半导体(Lam Research)、东京电子(TEL)、应 用材料(AMAT)，全球市占率合计 91%，其中泛林半导体以45%的市场份额遥遥领先，东京电子和应用材料则分别占据 28%和 18%的市场份额。
而国内的刻蚀设备企业主要有中微公司、北方华创、屹唐半导体和中电科。其中，中微公司、北方华创和屹唐半导体均以生产干法刻蚀设备为主，中电科除了生产干法刻蚀设备以外还生产湿法刻蚀设备。除上述企业外，国内还有创世微纳、芯源微和华林科纳等企业生产刻蚀设备。
数据显示，在芯片制造的所有设备中，光刻机的成本占比约为24%，而刻蚀机的占比约为20%，这两种设备合计占比为44%。从国内市场来看，刻蚀机尤其是介质刻蚀机，是我国最具优势 的半导体设备领域，也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中，去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。
随着闪存技术突破，存储市场拉动刻蚀设备需求明显增大，预测2025年全球刻蚀设备市场空间达到155亿美元，市场空间增量主要来自于存储制造对刻蚀设备的需求激增。
中国刻蚀机行业市场前景如何？智研瞻产业研究院发布的《中国集成电路用刻蚀机行业市场潜力分析及投资机会研究报告》详细分析了中国刻蚀机能资源潜力、中国刻蚀机产业政策、国内外中国刻蚀机能源开发利用技术、中国刻蚀机能利用产业发展、中国刻蚀机能源重点企业经营、中国刻蚀机能源产业发展前景与投资规划等，帮助企业和投资者了解中国刻蚀机能源行业市场投资价值。您若想对中国刻蚀机能源行业有个系统的了解或者想投资中国刻蚀机能源行业，本报告是您不可或缺的重要工具。
