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中国光刻胶行业 “专精特新”发展研究及投资战略规划报告
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中国光刻胶行业 “专精特新”发展研究及投资战略规划报告

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光刻胶行业概述和功能

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成,是一种对光敏感的混合液体。

在光刻工艺中,光刻胶被用作抗腐蚀涂层材料,在曝光、显影后,曝光部分将被溶解或保留下来,从而在半导体材料表面上形成所需图像。光刻胶按其形成的图像可分为正性和负性两大类。正性光刻胶在曝光后,曝光部分被溶解,未曝光部分保留;而负性光刻胶则相反,曝光部分保留,未曝光部分被溶解。

光刻胶在半导体制造过程中扮演着重要角色。光刻工艺是硅片制造中最费时、成本最高的步骤,约占整个硅片制造工艺的40%-60%。光刻技术将印制于掩膜板上的电路图复制到衬底晶圆上,为后续的刻蚀或离子注入工序做准备。光刻胶在此过程中的作用是将掩膜版上的图形通过光化学反应精确地转移到晶圆上。

光刻胶不仅在集成电路制造中至关重要,还广泛应用于显示面板和印刷电路板的生产。例如,平板显示行业使用的彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等,都是光刻胶的应用实例。在PCB行业中,干膜光刻胶、湿膜光刻胶和感光阻焊油墨也发挥着重要作用。

光刻胶行业产业链

光刻胶行业的产业链可以清晰地划分为上中下游。上游主要涉及原材料与设备供应,其中感光树脂、光引发剂、溶剂以及单体和其他助剂等是光刻胶的关键原材料,对整体性能有着重要影响。同时,光刻胶生产设备与测试设备也是确保产品质量的关键。中游则是光刻胶的制造环节,由晶瑞电材、南大光电、华懋科技等具备先进技术实力的企业构成,他们将上游的原材料转化为各类光刻胶产品,包括用于印刷电路板(PCB)、液晶显示面板(LCD)和半导体芯片制造的光刻胶。这些产品以其高精度和高质量要求,在制造过程中发挥着关键作用。下游则是光刻胶的应用领域,涵盖了印刷电路板、显示面板和电子芯片等行业,光刻胶在这些领域中扮演着形成电路图案和像素结构的重要角色。随着5G、物联网、大数据等领域的快速发展,光刻胶的市场需求持续增长,尤其是在半导体领域,高端光刻胶的需求日益旺盛。国内企业正积极投入研发和生产,以应对市场需求,并推动光刻胶行业的持续发展。

光刻胶行业分类

光刻胶,亦称光致抗蚀剂,是一种对光照敏感的复合液体,关键应用于微电子制造中的细微图案加工。根据应用领域的不同,光刻胶可以被分类为PCB(印制电路板)光刻胶、LCD(液晶显示)光刻胶和半导体光刻胶,其中半导体光刻胶对工艺的精细程度要求最高。具体来说,PCB光刻胶主要用于电路板的制造,技术门槛相对较低,但在光刻胶市场中占有一席之地,用于形成电路图案以实现高精度快速生产。LCD光刻胶则应用于液晶显示屏的制备过程,包括彩色滤光片、TFT(薄膜晶体管)和触摸屏等部分的制造,在全球光刻胶市场中占有一定的比例,技术相对成熟。半导体光刻胶是技术要求最高的一类,主要用于晶圆制造过程中的微细图形加工。由于摩尔定律推动集成电路密度不断增加,半导体光刻胶的技术难度也在不断提高,需要具备极高的分辨率和精确度。在全球范围内,日本企业在半导体光刻胶领域占据主导地位。

 

光刻胶行业发展历程

 

光刻胶行业的发展历程历经了多个阶段,展现了显著的技术进步和市场扩展。在早期探索阶段,法国人发现了沥青的感光性质,随后人造合成材料的感光性也相继被发现,为光刻胶的诞生奠定了基础。到了20世纪中期,美国柯达公司成功研制出第一个聚乙烯醇肉桂酸酯光固化性能的光刻胶,标志着光刻胶正式进入产业化时代。随后,IBM公司发明的聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶,极大地推动了光刻胶在半导体制造领域的应用。进入1990年代,随着半导体制程的飞速进步,光刻胶的需求急剧增加,特征尺寸不断缩小,光刻技术也向电子束投影光刻转变。进入21世纪,光刻胶行业迎来了技术创新与多元化发展阶段。Intel等公司开始研发极紫外(EUV)光刻技术,为光刻胶技术带来了革命性的进步。中国也在这一领域取得了重要突破,成功完成了国家科技重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”。光刻胶市场规模持续增长,预计到2026年将超过120亿美元。同时,随着半导体制程向5nm、3nm等先进制程的迈进,对高端光刻胶的需求将进一步增加。在竞争格局方面,光刻胶市场目前呈现出较为集中的态势,国际巨头企业占据显著市场份额。然而,随着国内企业技术水平的提升和研发投入的增加,光刻胶的国产化替代趋势愈发明显,华为、南大光电、彤程新材等企业已在光刻胶领域取得显著突破。展望未来,光刻胶行业将继续保持增长态势,技术壁垒和市场需求将推动国产企业加大研发投入,提升技术水平。同时,环保和可持续发展将成为行业发展的重要方向,企业需要关注环保法规的变化,并积极研发绿色生产技术。


第1章:中国光刻胶行业“专精特新”发展概述

1.1 光刻胶行业的界定

1.1.1 光刻胶概念界定

1.1.2 光刻胶所处产业链环节

1.1.3 光刻胶产品分类

1.1.4 光刻胶所属国民经济行业分类

1.2 “专精特新”概念界定

1.2.1 “专精特新”概念解读

1.2.2 “专精特新”相关概念辨析

(1)专精特新“小巨人”

(2)专精特新中小企业

(3)其他相关概念辨析

1.3 “专精特新”发展背景及发展地位分析

1.3.1 “专精特新”发展背景-内因分析

(1)中国中小企业发展现状

(2)中国制造业发展现状

(3)服务“国内国际双循环”发展格局

1.3.2 “专精特新”发展背景-外因分析

(1)全球贸易摩擦加剧、外部环境动荡

(2)中国高科技发展遭遇“卡脖子”

1.3.3 “专精特新”发展地位分析

1.4 本报告研究范围界定说明

1.5 本报告数据来源及统计标准说明

第2章:全球及中国光刻胶行业发展现状分析

2.1 全球光刻胶行业发展现状

2.1.1 全球光刻胶行业发展规模

2.1.2 全球光刻胶行业区域发展格局

2.1.3 全球光刻胶行业企业竞争格局

2.2 中国光刻胶行业发展现状

2.2.1 中国光刻胶行业发展规模

2.2.2 中国光刻胶行业区域发展格局

2.2.3 中国光刻胶行业企业竞争格局

2.3 中国光刻胶行业技术水平及国产化现状

2.3.1 中国光刻胶行业技术发展现状

(1)光刻胶行业技术创新现状

(2)光刻胶行业专利申请情况

(3)光刻胶行业技术研发趋势

2.3.2 中国光刻胶行业国产化发展现状

(1)光刻胶行业国产化率分析

(2)光刻胶行业本土企业布局

2.4 中国光刻胶行业发展机遇与挑战分析

第3章:中国光刻胶行业“专精特新”政策环境及投融资环境分析

3.1 中国光刻胶行业“专精特新”政策环境分析

3.1.1 国家层面光刻胶行业发展相关政策及规划汇总解读

(1)光刻胶行业发展相关政策汇总

(2)光刻胶行业发展相关规划汇总

3.1.2 国家层面光刻胶行业“专精特新”相关政策汇总解读

3.1.3 国家“十四五”规划对光刻胶行业发展的影响分析

3.1.4 “国内国际双循环”战略的提出对光刻胶行业的影响分析

3.1.5 光刻胶行业“专精特新”发展的政策机遇分析

3.2 中国光刻胶行业“专精特新”投融资环境分析

3.2.1 中国光刻胶行业“专精特新”领域主要资金来源

3.2.2 中国光刻胶行业“专精特新”领域投融资主体

3.2.3 中国光刻胶行业“专精特新”领域投融资方式

3.2.4 中国光刻胶行业“专精特新”领域投融资事件汇总

3.2.5 中国光刻胶行业“专精特新”领域投融资机遇分析

(1)光刻胶行业“专精特新”财税扶持力度

(2)光刻胶行业“专精特新”信贷支持政策

(3)光刻胶行业“专精特新”市场化融资渠道

(4)北京交易所成立带来的发展机遇分析

3.3 中国光刻胶行业“专精特新”发展战略支撑及保障

第4章:中国光刻胶行业“专精特新”企业培育方案及培育现状解读

4.1 中国光刻胶行业“专精特新”企业培育方案解读

4.1.1 光刻胶行业国家级“专精特新”企业培育目的

4.1.2 光刻胶行业国家级“专精特新”企业培育对象

4.1.3 光刻胶行业国家级“专精特新”企业培育内容

4.1.4 光刻胶行业国家级“专精特新”企业培育措施

4.1.5 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业奖励标准

4.2 中国光刻胶行业专精特新“小巨人”企业申报条件及流程解读

4.2.1 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业申报-基本条件

4.2.2 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业申报-专项条件

4.2.3 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业申报-分类条件

4.2.4 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业申报流程解读

4.3 中国光刻胶行业专精特新“小巨人”企业培育现状分析

4.3.1 全国专精特新“小巨人”企业培育现状

(1)专精特新“小巨人”企业培育进展

(2)专精特新“小巨人”企业培育特征

(3)专精特新“小巨人”企业行业分布

4.3.2 光刻胶行业专精特新“小巨人”企业培育现状

(1)光刻胶行业专精特新“小巨人”企业培育进展

(2)光刻胶行业专精特新“小巨人”企业培育特征

第5章:中国光刻胶产业链全景梳理及“专精特新”重点领域汇总

5.1 中国光刻胶产业结构属性(产业链)分析

5.1.1 中国光刻胶产业链结构梳理

5.1.2 中国光刻胶产业链生态图谱

5.2 中国光刻胶产业价值属性(价值链)分析

5.2.1 中国光刻胶行业成本结构分析

5.2.2 中国光刻胶行业价值链分析

5.3 中国光刻胶产业链发展痛点分析

5.4 中国光刻胶产业链“专精特新”鼓励布局方向

第6章:中国光刻胶产业链环节“专精特新”布局状况研究

6.1 中国光刻胶产业上游原材料市场“专精特新”布局状况研究

6.1.1 中国光刻胶产业上游原材料市场发展现状

(1)上游原材料-光引发剂市场发展现状

(2)上游原材料-高端树脂市场发展现状

(3)上游原材料-单体市场发展现状

(4)上游原材料-溶剂市场发展现状

6.1.2 中国光刻胶产业上游原材料市场发展痛点分析

6.1.3 中国光刻胶产业上游原材料市场“专精特新”市场培育现状

6.1.4 中国光刻胶产业上游原材料市场竞争格局分析

6.1.5 中国光刻胶产业上游原材料市场发展前景及趋势

6.2 中国光刻胶行业研发设备-光刻机市场“专精特新”布局状况研究

6.2.1 中国光刻胶行业研发设备-光刻机市场发展现状

(1)光刻机行业发展规模

(2)光刻机行业技术发展现状

(3)光刻机行业国产化发展现状

6.2.2 中国光刻胶产业研发设备-光刻机市场发展痛点分析

6.2.3 中国光刻胶产业研发设备-光刻机“专精特新”市场培育现状

6.2.4 中国光刻胶产业研发设备-光刻机市场竞争格局分析

6.2.5 中国光刻胶产业研发设备-光刻机市场发展前景及趋势

6.3 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶“专精特新”布局状况研究

6.3.1 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶发展现状分析

(1)193nm光刻胶发展规模

(2)193nm光刻胶技术发展现状

(3)193nm光刻胶国产化发展现状

6.3.2 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶发展痛点分析

6.3.3 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶“专精特新”市场培育现状

6.3.4 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶市场竞争格局分析

6.3.5 中国光刻胶行业细分市场-193nm光刻胶发展前景及趋势

6.4 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶“专精特新”布局状况研究

6.4.1 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶发展现状分析

(1)EUV光刻胶发展规模

(2)EUV光刻胶技术发展现状

(3)EUV光刻胶国产化发展现状

6.4.2 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶发展痛点分析

6.4.3 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶“专精特新”市场培育现状

6.4.4 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶市场竞争格局分析

6.4.5 中国光刻胶行业细分市场-EUV光刻胶发展前景及趋势

第7章:中国光刻胶行业区域发展格局及“专精特新”发展研究

7.1 中国光刻胶产业资源区域分布状况

7.2 中国光刻胶行业企业数量区域分布

7.3 中国光刻胶行业区域发展格局分析

7.4 中国各省市光刻胶行业“专精特新”政策环境分析

7.5 中国各省市光刻胶行业“专精特新”企业培育方案及申报条件

7.5.1 光刻胶行业省市级“专精特新”企业培育方案解读

(1)省级“专精特新”企业培育方案解读

(2)市级“专精特新”企业培育方案解读

7.5.2 光刻胶行业省市级“专精特新”企业奖励标准

7.5.3 光刻胶行业省市级“专精特新”企业申报条件解读

(1)省级“专精特新”企业申报条件

(2)市级“专精特新”企业申报条件

7.5.4 光刻胶行业省市级“专精特新”企业申报流程解读

(1)省级“专精特新”企业申报流程

(2)市级“专精特新”企业申报流程

7.6 中国各省市光刻胶行业“专精特新”市场培育现状

第8章:中国光刻胶行业代表性企业“专精特新”布局对比及案例研究

8.1 中国光刻胶行业代表性企业“专精特新”布局对比

8.2 中国光刻胶行业代表性企业“专精特新”布局案例研究

8.2.1 江苏南大光电材料股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.2 上海新阳半导体材料股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.3 晶瑞电子材料股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.4 彤程新材料集团股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.5 上海飞凯材料科技股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.6 北京科华微电子材料有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.7 上海微电子装备(集团)股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.8 常州强力电子新材料股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.9 无锡芯朋微电子股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

8.2.10 天津久日新材料股份有限公司

(1)企业发展历程及基本信息

(2)企业发展状况

(3)企业光刻胶业务类型及产品介绍

(4)企业光刻胶产业链布局状况

(5)企业光刻胶业务“专精特新”布局动向

(6)企业光刻胶业务布局优劣势分析

第9章:中国光刻胶行业“专精特新”发展趋势预判及前景预测

9.1 中国光刻胶行业市场前景预测

9.2 中国光刻胶行业“专精特新”发展趋势预判

9.3 中国光刻胶行业“专精特新”发展前景预测

第10章:中国光刻胶行业“专精特新”投资特性及投资机会分析

10.1 中国光刻胶行业“专精特新”投资特性分析

10.1.1 中国光刻胶行业“专精特新”投资壁垒分析

10.1.2 中国光刻胶行业“专精特新”投资风险预警及防范

10.2 中国光刻胶行业“专精特新”投资价值评估

10.3 中国光刻胶行业“专精特新”投资机会分析

10.3.1 产业链薄弱环节投资机会

10.3.2 区域市场投资机会

10.3.3 细分市场投资机会

10.4 中国集成电路设计行业“专精特新”潜在发展方向分析

第11章:中国光刻胶行业“专精特新”投资策略及发展建议

11.1 中国光刻胶行业“专精特新”投资策略

11.2 中国光刻胶行业“专精特新”发展建议


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报告研究方法

报告主要采用的分析方法和模型包括但不限于:
- 波特五力模型分析法
- SWOT分析法
- PEST分析法
- 图表分析法
- 比较与归纳分析法
- 定量分析法
- 预测分析法
- 风险分析法
……
报告运用和涉及的行业研究理论包括但不限于:
- 产业链理论
- 生命周期理论
- 产业布局理论
- 进入壁垒理论
- 产业风险理论
- 投资价值理论
……
数据来源
报告统计数据主要来自智研瞻产业研究院、国家统计局、地方统计局、海关总署、行业协会、工信部数据等有关部门和第三方数据库;
部分数据来自业内企业、专家、资深从业人员交流访谈;
消费者偏好数据来自问卷调查统计与抽样统计;
公开信息资料来自有相关部门网站、期刊文献网站、科研院所与高校文献;

其他数据来源包括但不限于:联合国相关统计网站、海外国家统计局与相关部门网站、其他国内外同业机构公开发布资料、国外统计机构与民间组织等等。


报告研究基于研究团队收集到的大量一手和二手信息,研究过程综合考虑行业各种影响因素,包括市场环境、产业政策、历史数据、行业现状、竞争格局、技术革新、市场风险、行业壁垒、机遇以及挑战等。


通过对特定行业长期跟踪监测,分析行业供给端、需求端、经营特性、盈利能力、产业链和商业模式等方面的内容,整合行业、市场、企业、渠道、用户等多层面数据和信息资源,为客户提供深度的行业市场研究报告,全面客观的剖析当前行业发展的总体市场容量、竞争格局、细分数据、进出口及市场需求特征等,并根据各行业的发展轨迹及实践经验,对行业未来的发展趋势做出客观预测。


智研瞻产业研究院建立了严格的数据清洗、加工和分析的内控体系,分析师采集信息后,需严格按照公司评估方法论和信息规范的要求,并结合自身专业经验,对所获取的信息进行整理、筛选,最终通过综合统计、分析测算得相关产业研究成果。